通信制御、画像処理、半導体関連をはじめとする制御系全般の開発を手がける日本コントロールシステム株式会社

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PATACON PC-cluster for EBDW は、半導体設計データをEB直描装置用の描画データに変換するためのソフトウエア製品です。

従来のフォトマスク描画データ用のフラクチャリング機能の他に、部分一括露光を行うためのアパーチャ定義ファイル作成機能、自動セル抽出機能、マッチング機能、ソフトウエアによる近接効果補正機能を持っています。

・設計データのセルからアパーチャ定義データを作成します。
・セルパターンの部分抽出、複数セルのまとめ、図形分割が可能です。

・設計データの繰り返しデータからアパーチャマスク用データを抽出します。
・繰り返し構造を持った図形と、同一グループ図形を成している図形を元にして、アパーチャマスクに収まる範囲で組み合わせていきます。

・マッチングは全てのパターンとマッチングするか調べるモードと、繰り返しパターンとのみマッチングするか調べるモードを指定出来ます。
・アパーチャ図形の辺属性が「接する」になっている場合には、マッチング対象パターンを切断してマッチングさせることが可能です。

・メッシュ内パターン密度から後方散乱エネルギーを求め、ドーズ量補正を行います。
・パターン密度が急激に変化する場所では、ショット分割を行い最適な補正量を割り当てます。