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PATACON PC-cluster│PEC option│for EPL│for LEEPL│for EBDW

PATACON PC-clusterは、半導体のマスク設計データをマスク・ライタ用の描画データに変換するためのソフトウエア製品です。

大規模なLSIマスク・データを短時間で処理できるようになります。定評のあるPATACONのソフトウエアを、汎用LinuxPC上で動作させ、さらに数台から数百台のLinuxPCを高速ネットワークで接続した環境で動作するようにしたものです。

定評のある「PATACON」のマスク・フラクチャリング・ソフトウエアを、汎用LinuxPC上で動作させ、さらに数台から数百台のLinuxPCを高速ネットワークで接続したクラスタ環境で動作するようにしました。長年つちかってきた当社独自の並列処理技術により、処理速度はLinuxPCの台数にほぼ比例します。

ますます大規模化するLSIの設計データや描画データに対応できます。数百GBの設計データ、描画データを数時間で処理できます。

電子ビーム描画装置の描画方式によっては、図形分解のしかたによって描画品質や描画速度が大きく左右されます。本システムではユーザと緊密な技術協力を行うことにより、高品質および高速描画を目指しています。ますます進むマスク･パターンの微細化に対応して微小図形解消処理には特に力を入れています。

変換された描画データを出力する際には、データを自動圧縮して出力します。MEBES出力はもちろん、JEOL52V1.0/V1.1/V3.0/V3.1、HL-700/800/900/7000およびVSB11/12出力の場合にもライブラリを自動生成し、人手を介することなく自動的にデータ圧縮します。

一括露光機能をもった描画装置のために、パターンデータ中からアパーチャ・マスク上に配置する図形を抽出する機能を用意しています。

任意角や複雑な図形を含むデータの処理においても信頼性の高い処理を行いますので、安心してマスク生産にお使いいただけます。

複数のジョブを同時に実行することができます。また、ジョブの実行中でも各ジョブの優先順位を変更したり中断したりすることができます。

入出力データの表示では、輪郭表示、塗りつぶし表示、拡大･縮小表示、各層の重ね合わせ表示、微小図形表示、グリッド表示、カーソルによる測長など多彩な表示機能を持っています。大規模なデータを高速に表示できるのが特長です。

ジョブ数、処理時間(入力､演算､出力)、図形数、データ量、稼働時間、ダウン時間、稼働率などを日報、週報、月報などのかたちで集計します。また、指定した特定ジョブに関する情報も集計できます。これにより、使用状況を把握したり課金のための情報を得ることができます。

システムの使用目的や運用形態によって、要求されるユーザ･インターフェース仕様はかなり異なります。本システムでは、標準的なウインドウ･インターフェースを用意していますが、お客様のご要求に合わせたインターフェースも開発します。また、コマンド･ファイルの自動生成ツールなども開発します。

GDS-II、MEBES、JEOL52V1.0/V1.1/V3.0/V3.1、HL-700/800/900/7000およびVSB11/12用のデータ解析ツールをはじめとして、豊富なユーティリティ･プログラムがそろっています。

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