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NDE Mask Manufacturable Suite
 

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マスクデータ準備 (MDP) のトータルソリューション

NDE (NCS Distributed Environment) は汎用 Linux PC-cluster 上で動作する並列処理システムです。先進の並列処理技術によって、旧システムの PATACON PC-cluster よりも更に柔軟でスケーラブルな並列処理を実現しています。
NDE Mask Manufacturable Suite (NDE-MS) は、NDE プラットフォーム上で、マスクデータ作成において OPC 後からマスク描画前までのマスクデータ準備 (MDP) で必要とされるアプリケーションを統合したソフトウェアシステムです。



NDE-MS application
NDE-MS application

NDE-MS では様々なアプリケーションが利用できます。

Fracture
    ・様々な図形演算を含むデータ・フラクチャリング (変換)
MRC
    ・マスクルールチェック
Select
    ・既存レイヤ群から図形演算に基づくパターン生成
Pattern-Match
    ・テンプレートベースのパターンマッチング
SCRD
    ・Curvilinear/Rectilinear 向けショット削減
PEC
    ・ドーズ変調による近接効果補正
MPC
    ・バイアスによるマスクプロセス補正
EBV
    ・スタンドアローンで軽快なデータビューワ
NDE の特徴
全てが分散処理

PATACON PC-cluster では前処理 (import) および後処理 (export) はシングルノードでのみ処理していましたが、NDE-MS は全ての処理が複数ノードで分散処理されます。
また、一部のアプリケーションでは export 処理を並列に実行するパイプライン処理もサポートしています。

全てが分散処理

パイプライン処理
優れたスケーラビリティ

NDE-MS が持つ先進の分散処理性能によってCPU コア数に応じた優れたスケーラビリティを実現します。

 
 
スケーラビリティ グラフ
豊富な入出力データフォーマット

NDE-MS は豊富な入出力データフォーマットをサポートしています。

対応フォーマット一覧
 
測長装置サポート

NDE-MS は CD-SEM や Registration などの測長装置向けレシピ作成をサポートしています。

対応装置一覧
タスク管理

ユーザが投入するタスクはセッションという単位で管理されます。NDE-MS の柔軟なタスク管理は、複数のセッションを同時に実行することができます。また、セッションの実行中でも各セッションの優先順位を変更したり中断したりすることができます。

 
バージョン管理

NDE-MS は複数のバージョンをいつでも自由に入れ替えて使うことができます。生産用に通常使うバージョンをデフォルトとし、他のバージョンはセッション投入時に指定することができます。

ライセンス管理

NDE-MS はライセンス管理機能を備えているためサードパーティ製のライセンス管理システムを必要としません。複数の NDE システムを1つのライセンスデーモンで管理したり、特定 N/W ポートしか利用できないセキュア環境でも導入することができます。また、サードパーティ製ライセンス管理システムを利用したいユーザ向けに FlexLM® にも対応しています。

 
使用実績集計

セッション数、処理時間、図形数、データ量、稼働時間、ダウン時間、稼働率などを日報、週報、月報などのかたちで集計します。また、指定した特定ジョブに関する情報も集計できます。これにより、使用状況を把握したり課金のための情報を得ることができます。

NDE-SDK

オプションで、NDE のデータベース (中間ファイル) にアクセスする API を SDK パッケージとして提供することができます。ユーザは独自の分散処理アプリケーションを NDE 上で実装することができます。

 
豊富なユーティリティプログラム

各入出力データフォーマットのデータ解析ツールをはじめとして、豊富なユーティリティ・プログラムがそろっています。

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